اولین مورد پردازش مواد خام است. سنگ معدن سیلیس یا سیلیکون از طریق خرد کردن، آسیاب کردن، جداسازی مغناطیسی و مراحل دیگر به سرباره سیلیکون، پودر سیلیکون یا عنصر سیلیکون تبدیل می شود. سرباره سیلیکون و پودر سیلیکون مواد اولیه اولیه سیلیکون و مواد مهم برای تهیه ویفرهای سیلیکونی و محصولات ویفر سیلیکونی هستند.
مرحله دوم فرآیند ذوب است که در آن سرباره سیلیکون یا پودر سیلیکون از طریق یک کوره ذوب تا دمای بالا گرم می شود تا آن را به سیلیکون مایع ذوب کند. در طول فرآیند ذوب، دما، فشار و اتمسفر باید کنترل شود تا از کیفیت و خلوص مواد سیلیکونی اطمینان حاصل شود. از سیلیکون مایع ذوب شده می توان برای تهیه محصولاتی مانند ویفر سیلیکونی و ویفر سیلیکونی فتوولتائیک استفاده کرد.
تولید فلز سیلیکون تصفیه شده
سپس فرآیند قالب گیری است که در آن سیلیکون مایع به داخل قالب تزریق می شود و پس از سرد شدن و انجماد به بلوک های سیلیکونی، ویفرهای سیلیکونی و سایر محصولات تبدیل می شود. فرآیند قالب گیری نیازمند کنترل دما، فشار و سرعت برای اطمینان از دقت ابعادی و پرداخت سطحی محصول قالب گیری است.
مرحله بعدی فرآیند پردازش است که در آن بلوک های سیلیکونی یا ویفرهای سیلیکونی برش، لبه، صیقل داده می شوند و سایر مراحل پردازش برای تهیه ویفرهای سیلیکونی، ویفرهای سیلیکونی و سایر مواد و دستگاه های نیمه هادی. فرآیند پردازش مستلزم استفاده از تجهیزات و تکنیک های پردازش دقیق و همچنین کنترل دقیق فرآیند برای اطمینان از کیفیت و عملکرد محصولات فرآوری شده است.
آخرین مرحله فرآیند تصفیه سطح است که شامل تمیز کردن، حذف فیلم، پوشش و سایر عملیات روی ویفر سیلیکونی فرآوری شده برای بهبود کیفیت سطح و عملکرد فوتوالکتریک آن است. فرآیند تصفیه سطح نیاز به کنترل دقیق پارامترهای فرآیند و محیط عملیاتی دارد تا از آلودگی و آسیب سطح جلوگیری شود.
تولید بلوک های فلزی سیلیکون
به طور کلی، فناوری پردازش سیلیکون فلز یک پروژه پیچیده است که به تجهیزات دقیق، کنترل دقیق فرآیند و فناوری عملیاتی نیاز دارد. از طریق نوآوری مداوم تکنولوژیکی و بهبود فرآیند، کیفیت و بازده مواد سیلیکونی را می توان بهبود بخشید و کاربرد گسترده مواد سیلیکونی در الکترونیک، فتوولتائیک، هوا فضا و سایر زمینه ها را می توان ارتقا داد.
